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干膜故障与排除

作者:admin   发布时间:2023-11-24 17:42   点击次数:0
故障原因排除方法
干膜与覆铜箔板粘贴不牢干膜储存过期,抗蚀剂中溶剂挥发在低于27℃储存,时间不易超过有效期
板清洁处理不良,表面有氧化膜或油污等或微观粗糙不够重新进行处理并检查板面形成均匀的水膜
环境的湿度太低保持工艺环境湿度为50﹪RH
贴膜温度过低或传递速度太快调整贴膜温度和传递速度
干膜与基体铜表面之间出现气泡贴膜温度过高,抗蚀剂中挥发成份急剧挥发,残留在聚脂膜和覆铜箔板之间,形成鼓泡调整温度至工艺规范规定的范围内
热压辊表面不平,有凹坑或划痕保护热压辊,清理时不能使用锋利、坚硬的工具去刮
热压辊压力太小适当增加两压辊间的压力
板面不平,有划痕和凹坑选择时要特别注意表面状态
干膜起皱两个热压辊轴向不平行,使干膜受压不均匀调整使两热压辊轴向保持平行
干膜太粘操作要熟练,放板要小心
贴膜温度太高调整至正常范围内
贴膜前预热的板子温度过高保持预热的温度适当
有余胶干膜质量差,如分子量太高或涂布干膜过程中偶然热聚合等更换干膜
干膜暴露在白光下造成部分聚合在安全光黄光区操作干膜
曝光时间太长适当的缩短曝光时间
底版的最大光密度不够,造成紫外光透过,使部分聚合曝光用光密度计检查底版最大光密度
曝光时生产用底版与基板表面接触不良造成虚光检查真空抽气系统和曝光用的框架
显影温度太低,显影时间太短,喷淋压力不够或部分喷咀被堵塞调整显影液的温度和传递速度,检查显影设备有关系统
显影液产生大量的气泡,降低了喷淋压力适当及时的添加消泡剂
显影液失效更换
显影后图像模糊,抗蚀剂发暗发毛曝光不足使用光密度尺校正曝光量或时间
底版最小光密度太大,使紫外光受阻曝光前用光密度计检查底版
显影液温度过高或显影时间过长调整显影液温度及显影时速度
图像电镀铜与基体铜结合不牢或图像有缺陷显影不彻底有余胶加强显影并注意显影后的清洗
图像上有修版液或污物修版时要戴细沙手套,并要注意不能将修版液污染线路
镀铜前板面粗化不够或粗化后清洗不够改进镀铜前的粗化和清洗
镀铜或镀锡铅合金有渗镀干膜性能差,超过有效期使用 确保在有效期间使用干膜
基板表面清洗不干净或粗化不良,干膜粘附不牢加强板表面的表面处理
贴膜温度低,传送速度快,干膜贴的不牢调整温度和速度
曝光过度抗蚀发脆使用光密度尺校正曝光量或曝光时间
曝光不足或显影过度造成抗蚀剂发毛,边缘起翘校正曝光量、调整显影温度传送速度
电镀前处理液温度过高控制好各种镀前处理液的温度