电子化学品技术有待补齐

它们需要哪些化工新材料之电子电气篇
　　
2017年我国集成电路进口量高达3770亿块，进口额约为2601亿美元，占我国总进口额的14.1%。而同期我国的原油进口总额约为1500亿美元，也就是说我国在半导体芯片进口上的花费已接近原油的两倍。与巨大的市场规模和进口额不匹配的不仅是芯片技术，还有位居芯片上游，与芯片行业密切相关的电子化学品行业。
　　
从细分领域来看，电子化学品主要可以分为高纯试剂、光刻胶、印刷电路板、塑料封装材料等。然而，除塑料封装材料外，我国部分电子化学品的技术水平甚至还未达到世界标准水平。目前，我国正准备加快新一代信息技术产业用电子化学品等新材料的批量生产工艺优化工作。
　　
光刻胶技术是重点
　　
提到电子化学品材料，最广为人知的就是在芯片行业广泛应用的光刻胶。光刻胶通常使用在紫外光波段或更小波长的光源进行曝光。根据使用的不同波长的曝光光源，相应的光刻胶组分也会有一定变化。
　　
据国外咨询公司预计，随着集成电路技术的发展，晶圆的电路密度越来越高，节点越来越小，这对光刻胶技术提出了更高要求。目前，通用的光刻技术是193nm浸没式光刻，配合双重曝光技术可以达到32nm节点，采用四重曝光技术可以达到14nm节点。然而，这一技术增加了光刻的难度和步骤，也提高了生产成本，降低了生产能力。当工艺尺寸达到10nm、7nm甚至更低时，这一技术的使用就受到了限制。而利用13.5nm的极紫外光光刻技术，可以达到22nm节点，甚至可以达到小于10nm的技术节点，目前这是光刻技术的研究重点。
　　
据可查阅的研究报告，近几年来，我国光刻胶行业市场规模始终保持两位数增长。据北京科华微电子（600360）材料有限公司董事长陈昕介绍，由于全球范围的半导体产业转移以及国内该产业的逐渐发展，预计未来几年国内光刻胶的市场规模增速将远高于国际市场整体增速，维持在15%以上。然而，光刻胶市场总量不大，2017年我国光刻胶市场价值在20亿元左右，其中高档产品价值14亿元，国内仅科华公司有产品投放市场。
　　
超净高纯试剂国产化率低
　　
超净高纯试剂是高纯试剂中主要应用于芯片行业的高纯试剂，与光刻胶类似，高纯试剂市场与集成电路市场的发展具有很大的关联作用。近几年我国超净高纯试剂市场规模持续两位数增长，2016年市场规模为41.78亿元。从市场发展情况来看，高纯试剂的市场规模约占集成电路行业市的1/8左右。
　　
超净高纯试剂基本上都是常见的化学药品，如硫酸、盐酸、乙醇、丙酮、超纯水等，但要求杂质含量低于5ppt，颗粒小于0.05微米。我国在高纯试剂方面有一定实力。据集成电路材料和零部件产业技术创新战略联盟秘书长石瑛介绍，我国的化学机械抛光制程工艺用抛光液，目前基本上可以和国外公司互相取长补短，其中铜抛光液和国外产品水平相当，已经具备进一步发展并取得突破的基础。
　　
不过总体来看，国内企业与国外企业在技术和品牌上的差距还依然不小。超净高纯试剂的国产化程度非常低，国际上的大型超净高纯试剂厂主要在美国、日本和欧洲地区，我国企业在国内市场占有率仅10%左右。
　　 
PCB化学品差距缩小
　　
印刷电路板(PCB)是十分常见的电子部件，是电子元器件电气连接的载体。PCB产业涉及的电子化学品较为广泛，包括覆铜板、铜箔、半固化片、化学药水、阳极镍/铜/锡、干膜、油墨等。
　　
据广东东硕科技有限公司总经理杨应喜介绍，由于下游电子产品追求短、小、轻、薄的发展趋势，导致PCB持续向高精密、高集成、轻薄化方向发展。电子产品对PCB的可靠性、稳定性、耐热性、导体延展性、平整性、表面清洁度等性能提出了越来越严格的要求，这往往需要通过化学配方和工艺的改变来实现，也就对PCB化学品提出了更高要求。据IHS统计，2017年PCB化学品市场达到112亿美元，年复合增速达4%。
　　
据杨应喜介绍，我国电子化学品市场虽高速发展，却长期被外资品牌所垄断。外资品牌发展早，技术积累时间长，具有良好的品牌效应，加之外资企业拥有强大的研发团队并配备有高端的检测分析仪器，这是国内企业不具备的。特别是在化学药水领域，前些年国内药水供应商起步慢，主要是从周边物料开始进入市场，与国外企业差距很大。目前，经过多年技术沉淀，国内药水商在新产品研发、技术人才培养方面也都加大了投入力度，与国外企业的差距正在逐步缩小。